| 发明名称 | 用于钽的化学机械抛光的组合物及方法 | ||
| 摘要 | 提供一种适用于钽的化学－机械抛光(CMP)的组合物，其包含研磨剂、有机氧化剂及为此的液体载体。该有机氧化剂具有相对于标准氢电极不超过0.5V的标准氧化还原电位(E<SUP>0</SUP>)。经氧化的形式包含至少一个π共轭环，该环包含至少一个直接连接在该环上的杂原子。该杂原子可为N、O、S、或其组合。在方法实施方式中，利用包含研磨剂、及具有相对于标准氢电极不超过0.7V的E<SUP>0</SUP>的有机氧化剂、及为此的液体载体的CMP组合物，通过用该组合物研磨基板的含钽表面，优选以抛光垫辅助，从而抛光该基板的该表面。 | ||
| 申请公布号 | CN101313042A | 申请公布日期 | 2008.11.26 |
| 申请号 | CN200680043840.X | 申请日期 | 2006.09.19 |
| 申请人 | 卡伯特微电子公司 | 发明人 | 菲利普·卡特;张健;斯蒂文·格鲁宾;弗朗西斯科·德里格西索罗 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01);H01L21/321(2006.01) | 主分类号 | C09G1/02(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 宋莉;贾静环 |
| 主权项 | 1.一种适用于钽的化学机械抛光(CMP)工艺的CMP组合物，该CMP组合物包含：(a)研磨剂；(b)具有相对于标准氢电极不超过0.5V的标准氧化还原电位(E0)的有机氧化剂，该有机氧化剂包含至少一个π共轭环，该环包含至少一个直接连接在该环上的杂原子，该至少一个杂原子选自N、O、S、及其组合；及(c)为此的液体载体。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||