低温多晶硅液晶显示结构及其制造方法

摘要

本发明涉及一种低温多晶硅的液晶显示结构及其制造方法；该结构包括基板，其具有多个像素区域，各像素区域具有控制区域、电容区域和显示区域，该结构先在基板上形成透明电极，并在透明电极上，且分别在控制区域、电容区域及显示区域的位置，形成控制装置、储存电容装置和显示单元，因此，可提高其电容并减少光掩模制造工艺。

主权项

1、一种制造低温多晶硅液晶显示结构的方法，该结构包括基板，该基板具有多个像素区域，各该像素区域具有控制区域、电容区域和显示区域，该方法包括下列步骤：(a)分别形成透明电极，在该基板的该显示区域、该控制区域和该电容区域上，并对应于该控制区域，形成氧化硅绝缘层；(b)对应于该控制区域与该电容区域，分别在该控制区域的该氧化硅绝缘层和该电容区域的该透明电极上，局部形成第一导电层，且该控制区域上，形成控制装置；(c)形成上绝缘层，至少局部覆盖该控制装置与该第一导电层；然后(d)形成第二导电层，至少局部覆盖在该上绝缘层上，以与该第一导电层间形成储存电容装置，使电连接该控制装置至位于该显示区域上的该透明电极。