发明名称 低电导率、抗灰迹Rb:KTP晶体及其制备方法
摘要 本发明公开了一种低电导率、抗灰迹Rb:KTP晶体,所述晶体的化学式为Rb<SUB>x</SUB>K<SUB>(1-x)</SUB>TiOPO<SUB>4</SUB>,0.01<x<0.1。本发明还公开了一种低电导率、抗灰迹Rb:KTP晶体的制备方法,包括以下步骤:在以K6作助熔剂的生长KTP的原料体系中加入氧化铷并搅拌均匀,制成Rb:KTP晶体原料;将制成的Rb:KTP晶体原料放入坩埚中进行加热熔化后再降温到饱合点;向熔化的原料中加入籽晶使Rb:KTP晶体沿籽晶生长。本发明公开的Rb:KTP晶体与KTP晶体相比,具有很低的电导率,能够满足作为电光器件的电导率要求,在高电场作用下不会使晶体变黑变性而损坏;晶体的吸收系数比较稳定,经实验测试具有很好的抗灰迹性能。
申请公布号 CN101311356A 申请公布日期 2008.11.26
申请号 CN200810105498.2 申请日期 2008.04.29
申请人 烁光特晶科技有限公司 发明人 师瑞泽;胡永岚;肖亚波;葛世艳;高山虎;王国影;尹利君;王忠;何庭秋
分类号 C30B29/14(2006.01);C30B29/22(2006.01);C30B11/00(2006.01);G02B1/02(2006.01);H01S3/16(2006.01) 主分类号 C30B29/14(2006.01)
代理机构 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 代理人 尹振启
主权项 1.一种低电导率、抗灰迹Rb:KTP晶体,其特征在于,所述晶体的化学式为RbxK(1-x)TiOPO4,0.01<x<0.1,其晶胞结构与普通KTP相同。
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