| 发明名称 | 抛光衬垫、制造抛光衬垫的方法以及抛光系统和抛光方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供用于化学机械抛光的抛光衬垫、其制造方法以及抛光系统和抛光方法，所述抛光衬垫包括：具有抛光面和底面的抛光层；形成于所述抛光面中的第一组沟槽；及形成于所述底面中的凹槽，其中在所述抛光面上对应于所述底面中凹槽的区域有比所述第一组沟槽浅的第二组沟槽。所述抛光系统包括：用于固定衬底的托架；支撑于机床工作台上的抛光衬垫，该抛光衬垫包括抛光层，该抛光层具有用于抛光的前表面和底面、形成于所述前表面上的第一组沟槽及形成于所述底面中的凹槽，且其中在所述抛光面上的一区域有比所述第一组沟槽浅的第二组沟槽；及一涡流监控系统，其至少具有线圈和磁芯的其中之一，以监控由所述托架固定的所述衬底上的金属层。 | ||
| 申请公布号 | CN101310929A | 申请公布日期 | 2008.11.26 |
| 申请号 | CN200810129234.0 | 申请日期 | 2003.07.23 |
| 申请人 | 应用材料有限公司 | 发明人 | B·A·斯威德克;M·比兰恩 |
| 分类号 | B24D13/14(2006.01);B24B29/00(2006.01);H01L21/304(2006.01) | 主分类号 | B24D13/14(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 赵蓉民 |
| 主权项 | 1.一种抛光衬垫，包括：一抛光层，其具有抛光面和底面；第一组沟槽，其形成于所述抛光层的前表面；及一凹槽，其形成于所述抛光层的底面上，且其中在所述抛光面上对应于所述底面中凹槽的区域没有沟槽，或是只有比所述第一组沟槽浅的第二组沟槽。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||