| 发明名称 | 基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种基板处理装置，其能够防止由于处理液的再生而含于处理液的表面活性剂的浓度降低的情况。基板处理装置(1)具备：贮存含于表面活性剂的处理液的贮存槽(11)；利用处理液处理基板的基板处理机构(12)；使贮存槽(11)内的处理液在贮存槽(11)和基板处理机构(12)之间循环的第一循环机构(20)；内部填充有吸附由于处理机构(12)中的基板处理而含于处理液的金属离子的吸附材料的吸附容器(32、33)；将贮存槽(11)内的处理液向吸附容器(32、33)内供给使其流通，并且，流通的处理液从吸附容器(32、33)向贮存槽(11)内回收，使处理液在贮存槽(11)和吸附容器(32、33)之间循环的第二循环机构(34)；向贮存于贮存槽(11)的处理液或从吸附容器(32、33)回收于贮存槽(11)的处理液中供给表面活性剂的供给机构(70)。 | ||
| 申请公布号 | CN101312121A | 申请公布日期 | 2008.11.26 |
| 申请号 | CN200810098982.7 | 申请日期 | 2008.05.26 |
| 申请人 | 住友精密工业株式会社 | 发明人 | 中田胜利;村田贵;田中幸雄;柏井俊彦 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/306(2006.01);H01L21/311(2006.01);C23F1/08(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李贵亮 |
| 主权项 | 1.一种基板处理装置，其具备：贮存槽，其贮存含有表面活性剂的处理液；处理机构，其利用所述处理液来处理基板；第一处理液循环机构，其将贮存于所述贮存槽中的处理液供给于所述处理机构，并将供给的处理液从该处理机构回收于所述贮存槽，从而使处理液在所述贮存槽和处理机构之间循环，所述基板处理装置的特征在于，具备：吸附容器，其在内部填充有吸附材料，该吸附材料对所述处理机构中的由基板处理而含于所述处理液中的金属离子进行吸附；第二处理液循环机构，其将贮存于所述贮存槽的处理液供给于所述吸附容器内，使该处理液流通，并且将流通后的处理液从该吸附容器回收于所述贮存槽，从而使处理液在所述贮存槽和吸附容器之间循环；供给机构，其向贮存于所述贮存槽的处理液或从所述吸附容器回收于所述贮存槽的处理液供给所述表面活性剂。 | ||
| 地址 | 日本兵库县 | ||