发明名称 |
制造固态成像器件的方法和固态成像器件及照相机 |
摘要 |
本发明提供了用于制造能改进在光接收单元中的感光度特性的固态成像器件的方法、感光度特性改进了的固态成像器件和设置有该固态成像器件的照相机。在形成有光接收单元的衬底上形成围绕所述光接收单元突出的屏蔽膜;透明绝缘膜形成在所述屏蔽膜上;通过所述绝缘膜的回蚀,在所述屏蔽膜的侧壁中形成侧壁绝缘膜;在所述屏蔽膜上形成在相应于所述光接收单元位置具有孔的掩模层;且通过采用侧壁绝缘膜和掩模层作为掩模来蚀刻所述屏蔽膜以形成暴露所述光接收单元的孔部分。 |
申请公布号 |
CN100437977C |
申请公布日期 |
2008.11.26 |
申请号 |
CN200610006005.0 |
申请日期 |
2006.01.23 |
申请人 |
索尼株式会社 |
发明人 |
宫本宏之;堂福忠幸 |
分类号 |
H01L21/82(2006.01);H01L27/146(2006.01);H01L27/148(2006.01);H04N5/335(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/82(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
陶凤波;侯宇 |
主权项 |
1、一种制造固态成像器件的方法,包括如下步骤:在衬底的成像区中形成光接收单元;在衬底上形成围绕所述光接收单元突出的屏蔽膜;在所述屏蔽膜上形成光学透明绝缘膜;通过回蚀来处理所述绝缘膜以在形成于所述光接收单元的周边部分中的屏蔽膜的侧壁中形成侧壁绝缘膜;在所述屏蔽膜上相应于光接收单元的位置形成具有掩模孔的掩模层;和通过使用所述侧壁绝缘膜和掩模层作为蚀刻掩模来蚀刻所述屏蔽膜以形成暴露光接收单元的孔部分。 |
地址 |
日本东京都 |