发明名称 SURFACE TREATMENT FOR MULTI-LAYER WAFERS FORMED FROM LAYERS OF MATERIALS CHOSEN FROM AMONG SEMICONDUCTING MATERIALS
摘要
申请公布号 KR100869399(B1) 申请公布日期 2008.11.21
申请号 KR20067011259 申请日期 2006.06.08
申请人 发明人
分类号 H01L21/20;H01L21/324;H01L21/762 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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