| 发明名称 | 清洗方法及制造电子器件的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种清洗方法，其包括：通过电解硫酸制备氧化溶液，并用所述氧化溶液清洗工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。本发明还公开了一种制造电子器件的方法，其包括：制备工件；通过电解硫酸制备氧化溶液，并用所述氧化溶液清洗所述工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。 | ||
| 申请公布号 | CN101307460A | 申请公布日期 | 2008.11.19 |
| 申请号 | CN200810009754.8 | 申请日期 | 2008.02.13 |
| 申请人 | 芝浦机械电子株式会社;氯工程株式会社;株式会社东芝 | 发明人 | 柴田幸弘;速水直哉;加藤昌明;小林信雄 |
| 分类号 | C25B1/30(2006.01);C25B1/22(2006.01);B08B3/08(2006.01);H01L21/306(2006.01) | 主分类号 | C25B1/30(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 于辉 |
| 主权项 | 1、清洗方法，其包括：通过硫酸的电解制备氧化溶液；以及用通过混合热加热的所述氧化溶液清洗工件。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||