| 发明名称 | 常压等离子体清洗装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种常压等离子体清洗装置，其包括：连接于交流电源的电源电极，该电源电极呈对应于表面处理对象物的剖面形状并具有可进行电气反应的外表面面积；与所述电源电极的外表面保持间距而设置的接地电极，该接地电极具有可使其与所述电源电极反应而生成的等离子体气体通过的喷射通孔；用于固定所述电源电极与接地电极而使两者维持一定间距的框架，该框架具有连通于所述接地电极的喷射通孔的开放部；和设置于所述框架的气体供给部，以用于向所述电源电极及接地电极之间供给气体。 | ||
| 申请公布号 | CN101308776A | 申请公布日期 | 2008.11.19 |
| 申请号 | CN200810096574.8 | 申请日期 | 2008.05.16 |
| 申请人 | K.C.科技股份有限公司 | 发明人 | 丁青焕;柳炅昊 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);B08B7/00(2006.01);H01J37/32(2006.01);G02F1/1333(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人 | 韩明星;金玉兰 |
| 主权项 | 1、一种常压等离子体清洗装置，其特征在于包括：连接于交流电源的电源电极，该电源电极呈对应于表面处理对象物的剖面形状并具有可进行电气反应的外表面面积；与所述电源电极的外表面保持间距而设置的接地电极，该接地电极具有可使其与所述电源电极反应而生成的等离子体气体通过的喷射通孔；用于固定所述电源电极与接地电极而使两者维持一定间距的框架，该框架具有连通于所述接地电极的喷射通孔的开放部；和设置于所述框架的气体供给部，以用于向所述电源电极及接地电极之间供给气体。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道安城市 | ||