发明名称 |
电光器件基片,电光器件,电子器件和投影显示设备 |
摘要 |
提供一种用于实现均匀的抛光速度,而不使夹层绝缘膜变厚的结构,该半导体基片上带有用于像素选择的晶体管区。液晶板基片带有隔离膜12,第二夹层绝缘膜11,导线膜10,像素电极,和连接插头15。下部模型图形A和上部模型图形B在非像素区中的输入接线端焊盘26的周边上形成。由于在模型图形A和B上形成的第三夹层绝缘膜13的表面高度升高,防止了在该位置处的过度抛光。结果在CMP处理中实现均匀的抛光速度。 |
申请公布号 |
CN100435013C |
申请公布日期 |
2008.11.19 |
申请号 |
CN200610100221.1 |
申请日期 |
1998.06.16 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
平林幸哉 |
分类号 |
G02F1/1362(2006.01);G02F1/133(2006.01);H01L27/12(2006.01);G03B21/00(2006.01) |
主分类号 |
G02F1/1362(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
刘宗杰 |
主权项 |
1.一种电光器件基片,其在把对应各像素的开关元件设置在基片上的像素区中,具有多个夹层绝缘膜和多个导电层交替形成的层膜结构,在该多个导电层中的顶导电层下面至少一个所述夹层绝缘膜通过抛光变平,其特征在于:在所述基片上的非像素区中,具有包含在经过所述抛光的所述夹层绝缘膜下面的所述导电层的多个不均匀模拟像素图形,所述不均匀模拟像素图形通过在所述基片上沿2维方向重复形成而形成。 |
地址 |
日本东京都 |