发明名称 聚(3,4-二烷氧基噻吩)和聚阴离子的复合体的水分散体的制造方法
摘要 本发明提供能够形成透明性和导电性优异的导电性薄膜的、含有导电性聚合物成分的水分散体的制造方法,和由该方法得到的水分散体。上述方法包括如下工序:在聚阴离子的存在下,使用氧化剂,使3,4-二烷氧基噻吩在水系溶剂中聚合,在该工序中,上述氧化剂通过在反应液中滴加含有该氧化剂的溶液或分散液而添加,或者在该聚合工序中,反应液中的碱金属离子浓度保持在400ppm以下。
申请公布号 CN101309949A 申请公布日期 2008.11.19
申请号 CN200680042824.9 申请日期 2006.10.06
申请人 长濑化成株式会社;H.C.世泰科有限公司 发明人 森田贵之;千种康男;宫西恭子;S·基希梅尔;W·勒韦尼希
分类号 C08G61/12(2006.01);C08L25/18(2006.01);C08L65/00(2006.01) 主分类号 C08G61/12(2006.01)
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 刘春成
主权项 1.一种聚(3,4-二烷氧基噻吩)和聚阴离子的复合体的水分散体的制造方法,其特征在于,包括如下聚合工序:在聚阴离子的存在下,使用氧化剂,使下式(1)所示的3,4-二烷氧基噻吩在水系溶剂中聚合,<img file="A2006800428240002C1.GIF" wi="770" he="237" />式中,R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>相互独立且为氢或C<sub>1-4</sub>的烷基,或者一起形成C<sub>1-4</sub>的亚烷基,该亚烷基可以被任意取代,在该聚合工序中,该氧化剂通过在反应液中滴加含有该氧化剂的溶液或分散液而添加。
地址 日本大阪府