发明名称 增加影像解析度的方向性内插方法及装置
摘要 一种增加影像解析度的方向性内插法及装置,是由一个二维阵列的像素组成并以复数个列方向像素排列,增加复数个像素以增加影像解析度,任一增加像素是位于影像的一位置,包含一输入端、一存储器装置、一纹路分析模组、一纹路变化量一致性模组及一插值模组。输入端接收代表影像的像素信号,存储器装置以列方向储存代表影像的像素,纹路变化量一致性模组依据该单调变化区域,以位置为中心来计算位置上方最邻近一列像素及下方最邻近一列像素在单调变化区域中各方向纹路变化量具有一致性的二相对应点,插值模组是耦合至纹路变化量一致性模组,由其找到的二相对应点及其邻近点,经由一中值滤波器以求出位置的欲插值像素的值。
申请公布号 CN100435578C 申请公布日期 2008.11.19
申请号 CN200310101372.5 申请日期 2003.10.16
申请人 凌阳科技股份有限公司 发明人 吕志明;林焜尉
分类号 H04N7/01(2006.01);H04N5/14(2006.01);H04N11/20(2006.01) 主分类号 H04N7/01(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 汤保平
主权项 1.一种增加影像解析度的方向性内插方法,该影像是由一个二维阵列的像素所组成并以复数个列方向像素排列,该方法是增加复数个像素以增加该影像解析度,该复数个像素中的任一增加像素是位于该影像的一位置,其特征在于,该方法包含下列步骤:一纹路分析步骤,用以得到以该位置为中心的一单调变化区域,该单调变化区域是由一上单调变化区域及一下单调变化区域交集而成,该上单调变化区域是由该位置上方最邻近一列像素的像素为中心进行高通滤波处理后,再经一区域判别处理而获得,该下单调变化区域是由该位置下方最邻近一列像素的像素为中心进行高通滤波处理后,再经一区域判别处理而获得;一纹路变化量一致性步骤,依据该单调变化区域,以该位置为中心来计算该位置上方最邻近一列像素及下方最邻近一列像素在该单调变化区域中复数方向纹路变化量具有一致性的二相对应像素;以及一插值步骤,由变化量一致性步骤所寻找到的二相对应像素,利用一中值滤波法求出该位置的欲插值像素的值。
地址 台湾省新竹县科学园区创新一路19号