发明名称 记录装置和改善重写特性的方法
摘要 本发明提供了一种记录装置和利用光学拾取器,在可记录的记录介质上记录一个符号的方法。该光学拾取器具有一个光源,和一个用于将该光源发出的光,作为一个光点聚焦在记录介质的记录表面上的物镜。当在可重写的记录介质上记录时,在记录介质的记录表面上形成的光点尺寸比在只可写一次的记录介质上记录,和从一个记录介质上再现时的光点尺寸大。因此,当在可重写的记录介质上记录时,光点尺寸比在只可写一次的记录介质上记录,和/或从一个记录介质上再现时的光点尺寸更加放大。这样,当在可重写的记录介质上记录符号时,可增加现有的记录的相位改变符号的擦除速度,以改善重写特性。
申请公布号 CN100435216C 申请公布日期 2008.11.19
申请号 CN03136257.5 申请日期 2003.05.20
申请人 三星电子株式会社 发明人 金成洙
分类号 G11B7/00(2006.01);G11B7/125(2006.01) 主分类号 G11B7/00(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 马高平;杨梧
主权项 1.一种记录装置,它可利用一个光学拾取器将符号记录在可记录的记录介质上,该光学拾取器具有一个光源,和用于将从光源发出的光作为一个光点聚焦在记录介质的记录表面上的一个物镜;其特征为,该光学拾取器包括:一个光点尺寸调节器,它具有液晶和电极,所述电极在与所述物镜的周边区域相应的位置上与所述液晶区域连接,通过调节所述液晶的透射率来改变物镜的有效数值孔径,从而改变在记录介质的记录表面上形成的光点尺寸;和一个控制器,它控制光点尺寸调节器,使在可重写的记录介质上记录时,在记录介质的记录表面上形成的光点尺寸比在只可写一次的记录介质上记录,和从一个记录介质上再现时的光点尺寸大。
地址 韩国京畿道