发明名称 处理系统
摘要 在第一种情况中,提供一第一基片处理系统,它包括:(1)一具有许多开口的室,基片可经过该开口被运输;(2)一结合至许多开口的第一个上的基片载体开启器;(3)一结合至许多开口的第二个上的热处理室;以及(4)一包含在室中的晶片搬运器,它具有一基片夹紧叶片和一用于运输高温基片的叶片。还提供了许多其它情况,以及按照这些和其它情况的方法和计算机程序产品。
申请公布号 CN100435269C 申请公布日期 2008.11.19
申请号 CN02814161.X 申请日期 2002.07.13
申请人 应用材料有限公司 发明人 埃弗雷恩·奎莱斯;梅兰·贝德贾特;罗伯特·B·洛伦斯;迈克尔·R·赖斯;布伦特·沃帕特
分类号 H01L21/00(2006.01) 主分类号 H01L21/00(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 刘志平
主权项 1.一用于运输基片的基片搬运器,它包括:一叶片,包括一叶片部分,它用于在由叶片限定的第一平面中支承基片,并包括一支承部分,其连接于并适于支承所述叶片部分;以及一传感器,其连接于叶片的支承部分,用于检测叶片上的基片的存在,该传感器包括一发射器和一检测器,该发射器用于发射一光束,以使该光束处于第一平面内,该检测器用于接收和检测该光束,发射器和检测器都连接至叶片上,以使在第一平面内被叶片支承的基片遮断该光束。
地址 美国加利福尼亚州