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发明名称 IMPROVED TECHNIQUES FOR ETCHING WITH A PHOTORESIST MASK
摘要
申请公布号 EP1042791(B1) 申请公布日期 2008.11.19
申请号 EP19980963904 申请日期 1998.12.11
申请人 LAM RESEARCH CORPORATION 发明人 HASELDEN, BARBARA;LEE, JOHN;ARIMA, CHAU;CHIU, EDDIE
分类号 H01L21/027;G03F7/40;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/311 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
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