| 发明名称 | 光学膜的处理方法、光学膜的处理装置及光学膜的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供在长膜上涂布防反射层等功能性层时易产生的横向不均、涂布条纹、拖尾等涂布故障得到改善的光学膜的处理方法、光学膜的处理装置以及光学膜的制造方法。该光学膜的处理方法是用液体润湿连续搬运的长膜，用弹性体连续地磨擦该长膜后，除去该长膜表面的液体的光学膜的处理方法，其特征在于，该弹性体的表面的静磨擦系数为0.2～0.9。 | ||
| 申请公布号 | CN101309955A | 申请公布日期 | 2008.11.19 |
| 申请号 | CN200680042859.2 | 申请日期 | 2006.11.08 |
| 申请人 | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 | 发明人 | 森永义章;田中武志;中嶋孝治;小村崇信 |
| 分类号 | C08J7/02(2006.01);C08J7/04(2006.01);B32B7/02(2006.01);B32B23/08(2006.01);B32B27/30(2006.01);G02B1/10(2006.01);G02B1/11(2006.01) | 主分类号 | C08J7/02(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 郑树槐;张平元 |
| 主权项 | 1.光学膜的处理方法，该方法包括，用液体润湿连续输送的长膜，用弹性体连续地磨擦该长膜，然后除去该长膜表面的液体，其中，该弹性体表面的静磨擦系数为0.2～0.9。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||