| 发明名称 |
Method and apparatus for clean photomask handling |
| 摘要 |
Some embodiments of the present invention include protecting a photomask from particle defects by heating the photomask to initiate a thermophoretic force.
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| 申请公布号 |
US7452637(B2) |
申请公布日期 |
2008.11.18 |
| 申请号 |
US20040865145 |
申请日期 |
2004.06.09 |
| 申请人 |
INTEL CORPORATION |
发明人 |
YAN PEI-YANG |
| 分类号 |
G03F1/00;G03B27/42;G03C1/52;G21K5/00 |
主分类号 |
G03F1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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