研磨用组成物及研磨方法

摘要

本发明系提供一种适合研磨二氧化矽膜的用途，特别是研磨设置于矽基板或多晶矽膜上之二氧化矽膜的用途之研磨用组成物及使用该研磨用组成物的研磨方法。本发明的研磨用组成物含有会合度比1大之胶质氧化矽及酸，pH为1~4。前述酸以选自羧酸及磺酸中至少1种较理想。该研磨用组成物再含有阴离子界面活性剂较理想。前述阴离子界面活性剂为硫酸酯盐或磺酸盐较理想。