发明名称 正型光阻组成物及图案形成方法
摘要 一种正型光阻组成物,其包括:(A)一种具有由式(I)表示之酸可分解重复单元且因酸之作用增加其在硷显影剂中溶解度的树脂;(B)一种在以光似射线或辐射照射时产生酸之化合物;(C)一种不溶于硷显影剂且具有氟原子与矽原子至少之一的疏水性树脂;及(D)一种溶剂,#P 097110977P01.bmp其中在式(I)中,Xa#sB!1#eB!表示氢原子、烷基、氰基、或卤素原子,Ry#sB!1#eB!至Ry#sB!3#eB!各独立地表示烷基或环烷基,而且Ry#sB!1#eB!至Ry#sB!3#eB!至少之二可连结形成环结构,及Z表示二价键联基。
申请公布号 TW200844664 申请公布日期 2008.11.16
申请号 TW097110977 申请日期 2008.03.27
申请人 富士软片股份有限公司 发明人 福原敏明;汉那慎一;神田博美
分类号 G03F7/039(2006.01) 主分类号 G03F7/039(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本