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经营范围
发明名称
定位设备、曝光设备、和装置制造方法
摘要
本发明提供一定位设备,其藉由在较短之时期中加速一架台而改善该产量,同时确保一精细定位之特色。一可运动元件系配置在一架台之侧面上,而一定子系配置在一基底导引件之侧面上,使得一对相同极性之磁铁在该架台之冲程区域的每一边缘处面向彼此。这产生一排斥力,其作用顶抗该架台之推力,并对应于该对相同极性的磁铁之面向面积。该定位设备另包含括一大推力线性马达。该大推力线性马达藉由将一超过该排斥力之推力施加至该架台而辅助该排斥力,以增加该对相同极性之磁铁的面向面积。
申请公布号
TW200844683
申请公布日期
2008.11.16
申请号
TW096138890
申请日期
2007.10.17
申请人
佳能股份有限公司
发明人
柴田雄吾
分类号
G03F7/207(2006.01);G03F9/02(2006.01);G03B27/53(2006.01)
主分类号
G03F7/207(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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