| 摘要 |
本发明系关于藉熔融的Zn金属与SiCl#sB!4#eB!之还原反应来制造高纯度矽之方法及反应器。此方法之特征在于还原反应于与溶解ZnCl#sB!2#eB!的熔融盐接触时发生。在此还原反应期间内所制得的ZnCl#sB!2#eB!后来溶解于熔融盐中而非蒸发。其优点在于还原期间内释出的气体减至最少，使得SiCl#sB!4#eB!和Zn的利用性较高并藉此有较高的Si产率。另一优点在于熔融盐有效率地保护空气敏感材料，Zn、SiCl#sB!4#eB!和Si，使得它们在还原期间内不会氧化。所得含有ZnCl#sB!2#eB!之熔融盐可用于ZnCl#sB!2#eB!之电解以再生Zn金属。在电解期间内逸出的氯可用以制造SiCl#sB!4#eB!。 |
