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发明名称
半导体装置及其之制造方法
摘要
揭露一种半导体装置,其包括一备制数个胞元主动区于一胞元区内之矽基材,一形成于介于该数个胞元主动区的任何2个之间的该矽基材的一部件中的元件隔离沟槽,一形成于该元件隔离沟槽之中的电容器介电膜,一形成于该电容器介电膜之上的电容器上部电极,且与该矽基材和该电容器介电膜一起装配成一电容器。该半导体装置系特征在于一虚设的主动区系被备制于该矽基材中、紧邻着该胞元区。
申请公布号
TW200845365
申请公布日期
2008.11.16
申请号
TW097109070
申请日期
2008.03.14
申请人
富士通股份有限公司
发明人
伊藤哲也
分类号
H01L27/105(2006.01);H01L21/8239(2006.01)
主分类号
H01L27/105(2006.01)
代理机构
代理人
恽轶群;陈文郎
主权项
地址
日本
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