控制流到处理腔室之气流的方法与设备

摘要

本发明提供一种用于将气体输送到半导体处理系统的方法和设备。在一实施例中，一种用于将气体输送到半导体处理系统的设备包括：具有入口和出口的多个气体输入和输出管路。连接管路系耦接各对之气体输入和气体输出管路。连接阀系配置以控制经过各个连接管路的流量。气体质量流量控制器系配置以控制流入各个入口的流量。在另一实施例中，一种方法包括：提供具有至少多个入口的歧管，其中该多个入口可选择性耦接到多个出口至少其中之一者；在处理之前或流至校准线路之前，将一种或多种气体流经歧管并绕过处理腔室而至一真空环境；以及在基板处理期间将一种或多种气体流入处理腔室。