发明名称 成像光学系统、曝光装置、及元件制造方法
摘要 本发明提供一种例如具有适于一次型曝光装置之形状之有效成像区域,且成像倍率之绝对值小之高数值孔径之反射折射型的成像光学系统。本发明之成像光学系统,系将第1面(R)之像形成于第2面(W),其具备配置于与第1面光学共轭之第1共轭位置与第1面之间的第1成像系统(G1)、配置于与第1共轭位置光学共轭之第2共轭位置与第1共轭位置之间的第2成像系统(G2)、及配置于第2共轭位置与第2面之间的第3成像系统(G3)。设第1成像系统之成像倍率为M1、第2成像系统之成像倍率为M2、第3成像系统之成像倍率为M3时,满足0.8<∣M1∣<2、0.8<∣M2∣<2、0.03<∣M3∣<0.2的条件。
申请公布号 TW200844677 申请公布日期 2008.11.16
申请号 TW097101424 申请日期 2008.01.15
申请人 尼康股份有限公司 发明人 藤岛洋平
分类号 G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01);G02B13/24(2006.01);G02B13/14(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 桂齐恒;阎启泰
主权项
地址 日本