发明名称 | 形成环形电容的方法 | ||
摘要 | 一种形成环形电容的方法,其包含提供一基板;形成一图案化遮罩层于基板。此图案化遮罩层定义一环形图案。以图案化遮罩层为罩幕,去除基板,以形成一环形沟渠于基板内。此环形沟渠具有一内壁及一外壁。形成一电容结构于环形沟渠之内壁及外壁。 | ||
申请公布号 | TW200845307 | 申请公布日期 | 2008.11.16 |
申请号 | TW096117177 | 申请日期 | 2007.05.15 |
申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 周国耀;吴文彬;施江林;黄仁瑞 |
分类号 | H01L21/8242(2006.01) | 主分类号 | H01L21/8242(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 蔡玉玲 | |
主权项 | |||
地址 | 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 |