利用调整数个ＶＨＦ功率源的功率比率来改善工件上的电浆处理均匀性

摘要

本发明提供一种用于在具有数个电极的电浆反应室中处理工件的方法，其中该些电极至少包含顶电极和工件支撑电极。该方法包括将各个VHF频率f1和f2的各自RF功率源耦接到以下其中之一：(a)各自的电极或(b)该些电极的公共电极，其中f1高到足以产生中心高的非均匀电浆离子分布，而f2低到足以产生中心低的非均匀电浆离子分布。该方法进一步包括调整在f1频率下的RF参数与在f2频率下的RF参数之间的比率，从而控制电浆离子密度分布，RF参数可以是以下其中之一：RF功率、RF电压或RF电流。