发明名称 用于储存形成半导体装置用中间层绝缘膜之涂布液之方法
摘要 一种储存涂布液之方法,其系用来形成半导体装置用之中间层绝缘膜,该方法包括储存涂布液,其系用来形成半导体装置用之中间层绝缘膜,该半导体在由塑胶制得具有经润湿表面的容器中,且此涂布液包含至少一种矽烷耦合剂。
申请公布号 TW200845209 申请公布日期 2008.11.16
申请号 TW097108818 申请日期 2008.03.13
申请人 富士软片股份有限公司 发明人 平冈英敏
分类号 H01L21/31(2006.01) 主分类号 H01L21/31(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本