发明名称 |
微影装置、基板台及释放晶圆之方法 |
摘要 |
一种微影装置包括一经建构及经配置以调节一辐射光束之照明系统,及一经建构及经配置以支撑一图案化元件之支撑件。该图案化元件能够在该辐射光束之横截面中赋予该辐射光束一图案以形成一经图案化之辐射光束。该装置亦包括一经建构及经配置以固持一基板之基板台,及一经建构及经配置以将该经图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统。该基板台包括经建构及经配置以支撑该基板之一底部区之对应部分的复数个突出物,及一经建构及经配置以在该基板中激励一冲击波之致动器。 |
申请公布号 |
TW200844685 |
申请公布日期 |
2008.11.16 |
申请号 |
TW096147769 |
申请日期 |
2007.12.13 |
申请人 |
ASML荷兰公司 |
发明人 |
阿诺 珍 布莱克;多明尼克 杰克布斯 比崔斯 安德利那斯 法兰肯;乔汉纳 亨利卡斯 洁特斯 法雷森;乔和纳斯 山德斯 古林默 马利亚 凡 丹 文;米契尔 普依特;泰恩 皮德斯 艾德瑞安纳斯 德 维特 |
分类号 |
G03F7/22(2006.01);H01L21/68(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/22(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 |