发明名称 用以处理电浆束缚之低电场设备
摘要 本发明提供一种处理基板之方法,系在具室壁之电浆处理室中处理基板。本方法包括提供具圆柱电极之电极设备,该圆柱电极包覆于介电衬套中,该介电衬套与室壁耦合。本方法尚包括提供一种电感性电路设备,该电感性电路设备耦合于该圆柱电极及该室壁之间。本方法尚包括产生一电浆在该电浆处理室中,以于电极设备配置于电浆处理室中期间,处理该基板。
申请公布号 TW200845827 申请公布日期 2008.11.16
申请号 TW096150749 申请日期 2007.12.28
申请人 兰姆研究公司 发明人 西巴斯汀 但恩
分类号 H05H1/02(2006.01) 主分类号 H05H1/02(2006.01)
代理机构 代理人 许峻荣
主权项
地址 美国