摘要 |
本发明之目的在于提供一种液晶膜之制造方法,其除了可得到超薄型之光学膜之外,可解决知问题之热冲击试验耐性和重工(reworking)时之层间剥离的问题。其解决手段在于一种液晶膜之制造方法,其特征为至少经由下述各步骤而得:第1步骤,系将形成于配向基板上之液晶配向被固定化之液晶物质层,经由接黏剂1与再剥离性基板接黏合后,将配向基板剥离并将液晶物质层转印至再剥离性基板上后,经由接黏剂2与暂用基板接黏合,藉此得到具有再剥离性基板/接黏剂层1/液晶物质层/接黏剂层2/暂用基板的积层体;第2步骤,系自上述积层体将再剥离性基板剥离;与第3步骤,系接着将液晶物质层/接黏剂层2之间剥离,藉此得到具有接黏剂层1/液晶物质层的液晶膜。 |