发明名称 动态随机存取记忆体的结构
摘要 本发明之DRAM结构包含一基材、一MOS电晶体、一沟渠电容,以及一表面导电带,该表面导电带凸出于基材表面,用来电连接该MOS电晶体的汲极与该沟渠电容的一电极,其中该表面导电带之侧壁和上表面被一绝缘层覆盖。一通过闸极位于该绝缘层上方。
申请公布号 TW200845368 申请公布日期 2008.11.16
申请号 TW096116671 申请日期 2007.05.10
申请人 南亚科技股份有限公司 发明人 李宗翰;郑志浩;陈德荫;李中元
分类号 H01L27/11(2006.01) 主分类号 H01L27/11(2006.01)
代理机构 代理人 许锺迪
主权项
地址 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号