发明名称 | 动态随机存取记忆体的结构 | ||
摘要 | 本发明之DRAM结构包含一基材、一MOS电晶体、一沟渠电容,以及一表面导电带,该表面导电带凸出于基材表面,用来电连接该MOS电晶体的汲极与该沟渠电容的一电极,其中该表面导电带之侧壁和上表面被一绝缘层覆盖。一通过闸极位于该绝缘层上方。 | ||
申请公布号 | TW200845368 | 申请公布日期 | 2008.11.16 |
申请号 | TW096116671 | 申请日期 | 2007.05.10 |
申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 李宗翰;郑志浩;陈德荫;李中元 |
分类号 | H01L27/11(2006.01) | 主分类号 | H01L27/11(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 许锺迪 | |
主权项 | |||
地址 | 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 |