发明名称 切割黏晶膜
摘要 本发明提供一种切割黏晶膜以及此切割黏晶膜的制造方法,此切割黏晶膜将切割制程时的黏接性、以及拾取制程时的剥离性这两方面均控制为良好。本发明之切割黏晶膜于基材上具有黏着剂层,并于此黏着剂层上具有黏晶层,此切割黏晶膜的特征在于:上述黏晶层之黏着剂层侧的算术平均粗糙度X(μm)为0.015 μm~1 μm,上述黏着剂层之黏晶层侧的算术平均粗糙度Y(μm)为0.03 μm~1 μm,上述X与Y之差的绝对值大于等于0.015。
申请公布号 TW200844202 申请公布日期 2008.11.16
申请号 TW097105360 申请日期 2008.02.15
申请人 日东电工股份有限公司 发明人 天野康弘;三隅贞仁;松村健
分类号 C09J7/00(2006.01);H01L21/304(2006.01) 主分类号 C09J7/00(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 日本