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发明名称
肖特基能障二极体及其制造方法
摘要
本发明提供一种肖特基能障二极体,包括:磊晶成长层,其形成于基板上,且具有台面部;以及肖特基电极,其形成于台面部上;且肖特基电极之端部与台面部之上表面端部之间的距离为2 μm以下,藉由使距离x为2 μm以下,可显着降低泄漏电流,使崩溃电压提高,故耐压特性优良。
申请公布号
TW200845401
申请公布日期
2008.11.16
申请号
TW097110859
申请日期
2008.03.26
申请人
住友电气工业股份有限公司
发明人
宫崎富仁;木山诚
分类号
H01L29/872(2006.01);H01L21/329(2006.01)
主分类号
H01L29/872(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
日本
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