发明名称 肖特基能障二极体及其制造方法
摘要 本发明提供一种肖特基能障二极体,包括:磊晶成长层,其形成于基板上,且具有台面部;以及肖特基电极,其形成于台面部上;且肖特基电极之端部与台面部之上表面端部之间的距离为2 μm以下,藉由使距离x为2 μm以下,可显着降低泄漏电流,使崩溃电压提高,故耐压特性优良。
申请公布号 TW200845401 申请公布日期 2008.11.16
申请号 TW097110859 申请日期 2008.03.26
申请人 住友电气工业股份有限公司 发明人 宫崎富仁;木山诚
分类号 H01L29/872(2006.01);H01L21/329(2006.01) 主分类号 H01L29/872(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本