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发明名称
将无机层沈积至热传送层之方法
摘要
本发明系关于一种将无机层沈积至雷射诱导热转移层之方法,且系关于一种藉由此方法形成之沈积转移层。在一实施例中,该转移层系安置于包含具有黑色矩阵之玻璃基板的受体元件上以获得包含由雷射诱导热转移所形成之红色、蓝色及绿色透明像素之彩色滤光片,且该无机层为氧化铟锡透明电极接地层。将该无机层沈积至该转移层之方法包含将该雷射诱导热转移层曝光于紫外辐射以产生曝光转移层,用清洗流体处理该曝光转移层以产生清洁转移层,及沈积与该清洁转移层接触之无机层以产生沈积转移层。
申请公布号
TW200844496
申请公布日期
2008.11.16
申请号
TW097103819
申请日期
2008.01.31
申请人
杜邦股份有限公司
发明人
凯西K 钱德斯凯伦
分类号
G02B5/20(2006.01);G02F1/1335(2006.01)
主分类号
G02B5/20(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国
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