发明名称 制造绝缘闸场效电晶体之方法
摘要 本发明揭示一种制造绝缘闸场效电晶体的方法,该方法包括以下步骤:(a)制备一基底,其包括源极/汲极区、一通道形成区、一形成在该通道形成区上之闸绝缘膜、一覆盖该等源极/汲极区之绝缘层,及一在该通道形成区上之绝缘层的一部分中提供之闸电极形成开口;(b)藉由在该闸电极形成开口中埋入一导电材料层形成一闸电极;(c)移除该绝缘层;及(d)横跨一整个表面顺序地沈积一第一层间绝缘层及一第二层间绝缘层,其中在该步骤(d)中,该第一层间绝缘层系在不包含氧原子之沈积蒙气中沈积。
申请公布号 TW200845206 申请公布日期 2008.11.16
申请号 TW097103815 申请日期 2008.01.31
申请人 新力股份有限公司 发明人 冈崎史晃
分类号 H01L21/31(2006.01);H01L21/336(2006.01) 主分类号 H01L21/31(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本