Verfahren zur Positionierung eines Substrats in einem lithographischen Apparat
摘要
申请公布号
DE60135937(D1)
申请公布日期
2008.11.13
申请号
DE20016035937
申请日期
2001.02.08
申请人
ASML NETHERLANDS B.V.
发明人
WILLEMS VAN DIJK, MARCUS JOHANNES HENRICUS;VAN DE PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANCISCUS;CASTENMILLER, THOMAS JOSEPHUS MARIA;ARIENS, ANDREAS BERNARDUS GERARDUS
