| 发明名称 | 磁记录介质，磁记录介质的基底和磁记录装置 | ||
| 摘要 | 一种磁记录介质包括：具有记录磁道(11)和隔离记录磁道(11)的隔离区域(12)的基底(1)，有凸起和凹陷图形形成于其上的隔离区域(12)，以及沉积在基底(1)上的记录薄膜(2，3)，其中，记录磁道(11)顶部和隔离区域(12)底部间的高度差大于等于2nm且小于等于7nm，记录磁道(11)顶部和隔离区域(12)底部间的高度差大于等于10nm。 | ||
| 申请公布号 | CN100433135C | 申请公布日期 | 2008.11.12 |
| 申请号 | CN200610094224.9 | 申请日期 | 2006.06.27 |
| 申请人 | 株式会社东芝;昭和电工株式会社 | 发明人 | 樱井正敏;喜喜津哲;冈正裕 |
| 分类号 | G11B5/82(2006.01);G11B5/667(2006.01) | 主分类号 | G11B5/82(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 杨晓光;李峥 |
| 主权项 | 1.一种磁记录介质，包括：具有记录磁道(11)和隔离所述记录磁道(11)的隔离区域(12)的基底(1)，该隔离区域(12)具有形成于其上的凸起和凹陷图形；以及沉积在所述基底(1)上的记录薄膜(2，3)，其特性在于，所述记录磁道(11)顶部和所述隔离区域(12)顶部间的高度差大于等于2nm且小于等于7nm，所述记录磁道(11)顶部和所述隔离区域(12)底部间的高度差大于等于10nm。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||