发明名称 |
三腔多通道光谱阶跃式集成滤光片 |
摘要 |
本发明公开了一种三腔多通道光谱阶跃式集成滤光片,包括:本发明的光谱阶跃式集成滤光片通过改变间隔层中微区光学厚度的办法,采用三腔结构,结合真空镀膜技术和半导体离子束刻蚀工艺,实现多通道带通滤光片于同一基片的集成。该集成滤光片能广泛用于航空航天遥感仪器的多(高)光谱密集获取。本发明的多通道微型阶跃集成滤光片具有的优点是:通道光谱矩形度好,分光效率高;采用组合刻蚀的方法,成品率较传统的逐一集成的滤光片有很大提高;可以在微小区域形成多个光谱通道,能够实现空间位置和光谱位置的准确定位,易于实现高光谱。 |
申请公布号 |
CN101303424A |
申请公布日期 |
2008.11.12 |
申请号 |
CN200810038824.2 |
申请日期 |
2008.06.12 |
申请人 |
中国科学院上海技术物理研究所 |
发明人 |
段微波;刘定权;张凤山 |
分类号 |
G02B5/20(2006.01);G02B1/10(2006.01) |
主分类号 |
G02B5/20(2006.01) |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 |
代理人 |
郭英 |
主权项 |
1.一种三腔多通道光谱阶跃式集成滤光片,其特征在于:它具有以下膜系结构:基底|(LH)^2(2-Xi)L(HL)^4H(2-Xi)L(HL)^4H(2-Xi)LHLH|入射介质其中,基底(1)材料采用人工合成蓝宝石或者熔融石英;入射介质的折射率在1.0-1.2之间,一般为空气;H和L分别代表光学厚度为四分之一中心波长的高、低折射率膜层,高、低折射率材料组合根据膜系从可见到红外波段的工作波长选择;Xi为第i个通道所处位置的间隔层(2)的刻蚀系数,该系数根据通道的中心波长以及膜系结构参数按常规方法来计算确定。 |
地址 |
200083上海市玉田路500号 |