发明名称 |
蚀刻液的再生方法,蚀刻方法及蚀刻装置 |
摘要 |
以使用磷酸水溶液的氮化硅膜蚀刻液为对象,且能够以极高的效率除去该蚀刻液中生成的硅化合物,更适合工业生产,够减少蚀刻液的再生处理经费。在再生所述蚀刻液的方法中,在从蚀刻槽中取出的蚀刻液流经的管线流路中,多个过滤器以并联、串联形式交互切换地连接,在所述多个过滤器以并联或串联的任一种方式连接时,通过将所述取出的蚀刻液供给至具有已蓄积了硅化合物的硅化合物的硅除去速度高的过滤材料的过滤器,通常能够将硅化合物的硅除去速度维持在高的状态。 |
申请公布号 |
CN101303976A |
申请公布日期 |
2008.11.12 |
申请号 |
CN200710169160.9 |
申请日期 |
2007.10.12 |
申请人 |
M·FSI株式会社 |
发明人 |
伊豆田信彦;渡津春留 |
分类号 |
H01L21/311(2006.01);H01L21/00(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/311(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
陈昕 |
主权项 |
1、一种蚀刻液的再生方法,该方法是在处理槽内,使用包含磷酸水溶液的蚀刻液蚀刻氮化硅膜,将含有该蚀刻所生成的硅化合物的蚀刻液从处理槽中取出,使用过滤器从所述取出的蚀刻液中除去所述的硅化合物,再生所述的蚀刻液的方法,其特征在于,所述取出的蚀刻液流经的管线流路与多个过滤器并联、串联交互切换地连接,除运转开始时所述多个过滤器的最初并联连接情况外,通常,通过将所述取出的蚀刻液,供给至至少一个具有已蓄积了硅化合物的硅化合物的硅除去速度高的过滤材料的过滤器,由此一边将硅化合物的硅除去速度维持在高的状态,一边除去硅化合物。 |
地址 |
日本东京 |