| 发明名称 | 光刻蚀法中使用的含噻吩的光酸生成剂 | ||
| 摘要 | 具有任一下述通式的含噻吩的光酸生成剂，其中，R<SUP>1</SUP>、R<SUP>2</SUP>或R<SUP>3</SUP>中至少有一个是噻吩或被烷基、烷氧基或环烷基取代的噻吩，不含噻吩部分的其余R<SUP>1</SUP>、R<SUP>2</SUP>或R<SUP>3</SUP>独立地选自烷基、环烷基和芳基，或者R<SUP>1</SUP>、R<SUP>2</SUP>或R<SUP>3</SUP>中至少有一个结合在一起形成具有约4至约8个环碳原子的环状部分；Y是抗衡离子，本发明还公开了该光酸生成剂在化学放大的抗蚀剂组合物中的应用。 | ||
| 申请公布号 | CN100432837C | 申请公布日期 | 2008.11.12 |
| 申请号 | CN02812555.X | 申请日期 | 2002.06.06 |
| 申请人 | 国际商业机器公司 | 发明人 | 李文杰;普什卡拉·R·瓦拉纳西;陈光军 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01);G03C5/00(2006.01);C07C381/00(2006.01);C07C315/00(2006.01);C07C331/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/004(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 封新琴;巫肖南 |
| 主权项 | 1、一种化学放大的抗蚀剂组合物，其包括：(a)至少一种化学放大的基础聚合物，包括含氟聚合物或含硅聚合物；(b)至少一种光酸生成剂，其中，所述至少一种光酸生成剂是具有下述通式的含噻吩的化合物：<img file="C028125550002C1.GIF" wi="631" he="330" />其中，R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>或R<sup>3</sup>中至少有一个是噻吩或被烷基、烷氧基或环烷基取代的噻吩，不含噻吩部分的其余R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>或R<sup>3</sup>独立地选自烷基、环烷基和芳基，所述烷基为具有1至10个碳原子的直链或支链脂族烃基，所述环烷基为具有3至12个环脂族碳原子的环状基团，所述芳基为具有3至12个碳原子的芳香烃，所述烷氧基中的烷基为具有1至10个碳原子的直链或支链脂族烃基；并且Y是抗衡离子；和(c)用于溶解所述至少一种化学放大的基础聚合物的溶剂，其中，所述至少一种化学放大的基础聚合物是酸敏聚合物，其含有能够被所述至少一种光酸生成剂产生的酸裂解的酸敏侧链。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||