发明名称 |
平面光集成可重构光分插复用器 |
摘要 |
本发明涉及光电集成器件技术领域。它提出了一种平面光集成可重构光分插复用器,是基于平面光波导技术,采用硅基沉积二氧化硅和溅射金属薄膜的半导体多层晶圆加工工艺和技术制作。其集成光电回路由密集光波分解复用器/复用器、光分插信道,阵列光开关、可调光衰减器和光检测器构成。该器件不但结构紧凑、集成度高、体积小,重量轻,性能稳定可靠,而且制作工艺成熟、稳定、适合大批量生产、生产效率高、成本低,适用于光通信系统的长距离干线传输网、环形城域网和局域接入网,可实现系统网络设备的在线升级,不中断业务扩容,组网经济,配置灵活。 |
申请公布号 |
CN101303433A |
申请公布日期 |
2008.11.12 |
申请号 |
CN200710040478.7 |
申请日期 |
2007.05.10 |
申请人 |
陈谷红;管桦 |
发明人 |
陈谷红;管桦 |
分类号 |
G02B6/12(2006.01);H04J14/02(2006.01) |
主分类号 |
G02B6/12(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
1.平面光集成可重构光分插复用器,由光电多层晶圆结构组成,包括硅基、衬垫、波导光芯、覆盖包层、加热层、导电层、保护层、隔热槽和嵌入槽,其特征在于:硅基晶圆上沉积折射率及厚度不同的二氧化硅衬垫、波导光芯和覆盖包层,构成平面光波导;在平面光波导上面溅射金属薄膜加热层和导电层;金属薄膜上面沉积防氧化保护层;以深度蚀刻槽作为隔热槽和光电二极管芯片嵌入槽;可重构光分插复用器的集成光电回路由密集波分解复用/复用器光路、分插信道光路、阵列光开关光路、可调光衰减器和光检测器光电回路构成。 |
地址 |
200042上海市静安区万春街162弄56支弄30号1902室 |