| 发明名称 | 二氧化硅系被膜形成用涂布液 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种二氧化硅系被膜形成用涂布液，其中含有硅氧烷聚合物和溶剂，所述溶剂中含有正丁醇和3-甲氧基丙酸甲酯。由此，可以得到能够无间隙地掩埋微小的空隙的二氧化硅系被膜形成用涂布液。 | ||
| 申请公布号 | CN100432173C | 申请公布日期 | 2008.11.12 |
| 申请号 | CN200510086052.6 | 申请日期 | 2005.07.19 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 高滨昌;佐藤功 |
| 分类号 | C09D183/04(2006.01);H01L51/40(2006.01) | 主分类号 | C09D183/04(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 朱丹 |
| 主权项 | 1.一种二氧化硅系被膜形成用涂布液，其中含有硅氧烷聚合物和溶剂，其特征在于，所述硅氧烷聚合物，是使从用下述通式(I)表示的硅烷化合物中选择的至少1种化合物发生水解反应而得到的反应产物，R4-nSi(OR’)n …(I)式中，R独立地表示氢原子、烷基或苯基，R’独立地表示烷基或苯基，n表示2～4的整数；所述溶剂中以正丁醇/3-甲氧基丙酸甲酯＝20/80～80/20的质量比含有正丁醇和3-甲氧基丙酸甲酯。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||