发明名称 |
含有阴离子聚合物的护肤组合物 |
摘要 |
用于处理皮肤的化妆上可接受的组合物,其包括基于聚合物固体的约0.1至约20wt%的阴离子聚合物,所述阴离子聚合物由约10至约80mol%的2-丙烯酰胺-2-甲基-1-丙烷磺酸或其碱加成盐,以及约90至约20mol%的一种或多种阴离子或非离子单体组成。 |
申请公布号 |
CN100431520C |
申请公布日期 |
2008.11.12 |
申请号 |
CN200380106270.0 |
申请日期 |
2003.10.15 |
申请人 |
纳尔科公司 |
发明人 |
Y·Z·赫西福特;D·贝茨;W·M·卡尔森;L·勃兰特;J·L·史密斯 |
分类号 |
A61K8/46(2006.01);A61Q19/00(2006.01) |
主分类号 |
A61K8/46(2006.01) |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代理人 |
沙捷;彭益群 |
主权项 |
1.用于处理皮肤的化妆上可接受的组合物,所述组合物基于聚合物固体含有0.1至20wt%的阴离子聚合物,其中所述阴离子聚合物由10至80mol%的2-丙烯酰胺-2-甲基-1-丙烷磺酸或其碱加成盐,以及90至20mol%的一种或多种阴离子或非离子单体组成。 |
地址 |
美国伊利诺斯州 |