反应型受阻胺涂料配方及涂层的光稳定化方法

摘要

本发明涉及反应型受阻胺(r-HALS)光固化涂料配方及涂层的原位光稳定化方法。本发明是r-HALS(ATMP、MTMP、APMP、MPMP)作为紫外光固化聚合物涂料体系的光稳定剂的应用，其中聚合物涂料的配方由r-HALS、油性低聚物、稀释剂、光引发剂、和其他助剂组成，紫外光固化聚合物涂料体系的原位光稳定化方法括a.预聚物均化、b.涂布、c.真空烘干、d.紫外光固化等步骤。本发明的涂料经试验表明其紫外光固化聚合物涂层具有优异的光防护性能。

主权项

1.一种紫外光固化聚合物涂料体系的配方，各组份成份及含量如下：组份 含量为wt％r-HALS 0.5～2.0油性低聚物 70.0～88.0稀释剂 10.0～28.0光引发剂 1.0～3.0其他助剂 0.1～1.0其中r-HALS是受阻胺四甲基哌啶衍生物：4-丙烯酰氧基-2，2，6，6-四甲基哌啶醇酯和4-甲基丙烯酰氧基-2，2，6，6-四甲基哌啶醇酯或受阻胺五甲基哌啶衍生物：4-丙烯酰氧基-1，2，2，6，6-五甲基哌啶醇酯和4-甲基丙烯酰氧基-1，2，2，6，6-五甲基哌啶醇酯中的任一种；低聚物为芳香族或脂肪族聚氨酯丙烯酸酯或双酚A型环氧树脂丙烯酸酯中的任一种；稀释剂为二缩三丙二醇双丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、1，4-环氧乙烷环己烷双丙烯酸酯中的任一种；光引发剂是2，2-二甲基-2-羟基苯乙酮、2-羟基-2-环己烷基苯乙酮和2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮中的任一种；其他助剂是流平剂或消泡剂。