| 发明名称 | 设计掩模的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种设计掩模的方法。在该方法中，可以定义并缩减芯片区域以形成母虚设图案。可以形成网格虚设图案，并且可以去除所述母虚设图案和所述网格虚设图案之间相互重叠的部分以形成子虚设图案。本发明能够保证图案均匀性。 | ||
| 申请公布号 | CN101303521A | 申请公布日期 | 2008.11.12 |
| 申请号 | CN200810097075.0 | 申请日期 | 2008.05.12 |
| 申请人 | 东部高科股份有限公司 | 发明人 | 李相熙;曹甲焕 |
| 分类号 | G03F1/14(2006.01);G03F1/00(2006.01) | 主分类号 | G03F1/14(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 郑小军 |
| 主权项 | 1、一种设计掩模的方法，包括步骤：定义芯片区域；缩减所述芯片区域以形成母虚设图案；形成网格虚设图案；以及通过去除所述虚设图案与所述网格虚设图案中相互重叠的部分而形成子虚设图案。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||