| 发明名称 | 光掩模及用来在光掩模上形成非正交特征的方法 | ||
| 摘要 | 提供一种用来在光掩模上形成非正交特征的光掩模和方法。用来在光掩模坯件上形成非正交特征的方法包括提供包括原始形状的掩模图案文件以及将原始形状分裂成多个可写形状。通过利用光刻系统将可写形状从掩模图案文件成像到光掩模坯件的抗蚀剂层上，由可写形状形成的非正交特征被形成在光掩模坯件上。 | ||
| 申请公布号 | CN101305319A | 申请公布日期 | 2008.11.12 |
| 申请号 | CN200680041429.9 | 申请日期 | 2006.09.06 |
| 申请人 | 凸版光掩膜公司 | 发明人 | S·S·麦唐纳;D·梅伦欣 |
| 分类号 | G03F1/00(2006.01);G03F9/00(2006.01);G03C5/00(2006.01);G06F17/50(2006.01) | 主分类号 | G03F1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 张雪梅;陈景峻 |
| 主权项 | 1.一种用来在光掩模坯件上形成非正交特征的方法，包括：提供包括原始形状的掩模图案文件；将原始形状分裂成多个可写形状；以及通过利用光刻系统将可写形状从掩模图案文件成像到光掩模坯件的抗蚀剂层上来在光掩模坯件上形成非正交特征，所述可写形状在光掩模坯件上形成非正交特征。 | ||
| 地址 | 美国德克萨斯州 | ||