| 发明名称 | 基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种基板处理装置，防止比如附着在处理完成的基板上的腐蚀性气体等处理气体的气体成分和搬送室等的排气一起，原样地向外部排出，可减轻工厂的排器设备等的负担。该基板处理装置具备用于对晶片实施特定处理的处理单元和向该处理单元搬进搬出晶片的搬送室(200)，搬送室(200)具有：向搬送室(200)内导入外气的供气部(230)、与供气部(230)相对地设置，排出搬送室(200)内气体的排气部(250)、设置在排气部(250)上，由至少除去排气中所含有的有害成分的有害成分除去过滤器(256)构成的排气过滤机构(254)。 | ||
| 申请公布号 | CN100433248C | 申请公布日期 | 2008.11.12 |
| 申请号 | CN200610067114.3 | 申请日期 | 2006.03.31 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 佐佐木义明;村木雄介;西村荣一;小野优子 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/677(2006.01);F24F7/10(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳;王雪燕 |
| 主权项 | 1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：用于对被处理基板实施特定处理的处理单元，和向该处理单元搬进搬出被处理基板的搬送室，所述搬送室具备：向所述搬送室内导入外气的供气部；与所述供气部相对地设置，对所述搬送室内进行排气的排气部；和设置在所述排气部，对所述排气进行过滤的排气过滤机构，所述排气部由能够控制扇的旋转数的直流扇构成，所述直流扇设置在所述排气过滤机构的下游侧，该直流扇与所述排气过滤机构隔开空间。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||