Ein Layout-Verfahren für eine Maske

摘要

Ein Layout-Verfahren für eine Maske kann das Erstellen von Füllstruktur-Sperrgebieten und eines Typs mit einer einzelnen Füllstruktur für eine Schicht enthalten. Eine Zelle kann ausgebildet werden, in der eine erste Hauptstruktur ausgebildet ist. Eine zweite Hauptstruktur kann in einem Hauptchip-Layout ausgebildet werden, und die Zelle kann in den Hauptchip eingefügt werden. Ein Füllstruktur-Sperrgebiet kann auf der Basis der ersten Hauptstruktur und der zweiten Hauptstruktur erstellt werden. Dann kann ein Typ mit einer einzelnen Füllstruktur über das gesamte Hauptchip-Layout ausgebildet werden. Füllstrukturen, die mit dem Füllstruktur-Sperrgebiet interagieren, können entfernt werden.