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Verfahren zur Herstellung von hochreinem Polysiliciumgranulat durch Abscheidung eines Reaktonsgases an Siliciumgranulat in einem Wirbelschichtreaktor, umfassend: (I) einen Reaktor mit einem Reaktorraum, bestehend aus mindestens zwei hintereinander liegenden Zonen, (II) wobei die untere Zone durch die Einleitung eines Silicium-freien Gases mittels Einzeldüsen in das Siliciumgranulat schwach fluidisiert wird, (III) daran in direktem Kontakt eine weitere Zone angeschlossen ist, die in direktem Kontakt mit der ersten Zone steht, (IV) diese Zone über deren nach außen begrenzende Wandung beheizt wird und (V) in die dort gebildete Reaktionszone ein siliciumhaltiges Reaktionsgas mittels einer oder mehrerer Düsen mit hoher Geschwindigkeit als vertikal nach oben gerichteter Gasstrahl eingedüst wird, wobei sich oberhalb der Düsen lokale Reaktionsgasstrahlen, umgeben von blasenbildender Wirbelschicht, bilden, innerhalb derer sich das siliciumhaltige Gas an den Partikeloberflächen zersetzt und zum Partikelwachstum führt und (VI) das Reaktionsgas dabei in der Art eingeleitet wird, dass es nahezu bis zum chemischen Gleichgewichtsumsatz abreagiert ist, bevor es entweder die Wirbelschichtbewandung oder die Wirbelschichtoberfläche erreicht.
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