发明名称 | 量化晶片非均匀性和图形研究重要性的用户界面 | ||
摘要 | 为晶片和晶片系列的图形表示和分析提供的晶片观察器系统。更具体地,晶片观察器系统包括显示晶片的图形用户界面、分析晶片的图形选择区、在晶片的选择区上执行分析以及显示分析结果。 | ||
申请公布号 | CN100431126C | 申请公布日期 | 2008.11.05 |
申请号 | CN03825416.6 | 申请日期 | 2003.09.24 |
申请人 | 兰姆研究有限公司 | 发明人 | J·卢克;A·D·拜利三世;M·维尔科克森 |
分类号 | H01L21/66(2006.01) | 主分类号 | H01L21/66(2006.01) |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 杨生平;梁永 |
主权项 | 1.用于控制晶片图的分析的图形用户界面,其包括:提供由一组跨晶片分布的晶片测量数据点定义的晶片图,其中每个晶片测量数据点代表一个给定晶片特性的测量;提供图形选择控制,用于选择进行统计分析的晶片图的区域,其中图形选择控制允许不考虑晶片上的芯片边界而对晶片图的区域进行选择;产生晶片图的所选区域内的晶片测量数据点的统计数据,以完成统计分析;显示晶片图的所选区域的统计数据;以及当在晶片图的所选区域中检测到变化时,重新产生用于显示的统计数据,其中重新产生的统计数据用于晶片图的已变化的所选区域内的晶片测量数据点。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |